六、污染物排放總量控制分析

    擬建工程污染物排放產(chǎn)生量、治理削減量和最終排放量核算見表4.

    由表4可見，擬建工程投產(chǎn)后，最終排入環(huán)境的廢氣主要污染物氟化物為3.42ga；

    本工程排入環(huán)境的廢水為131.98萬m3／a，CODcr排放量為188.16Ua，NH3——N排放量為5.77t/a；本工程固體廢物最終排放總量為0.

    本項目位于北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)，目前開發(fā)區(qū)內(nèi)無污染物排放控制的下達指標，因此本項目也無明確的污染物排放的控制指標。2002年底開發(fā)區(qū)污水排放量為1.69萬m3／d，CODc，的質(zhì)量濃度為300～400mg／L，按預測本項目最終CODc，的排放量188.16Ua，約占2002年全開發(fā)區(qū)CODe，的8.84％：NH3一N排放量為5.77Ua.

    建議在滿足達標排放的前提下，以上污染物排放量作為本項目污染物總量控制指標建議值，報請環(huán)保主管部門審批，并提出實施總量控制指標的具體措施和計劃。

    七、清潔生產(chǎn)及節(jié)水分析

    目前我國集成電路生產(chǎn)已具備了——定的規(guī)模和基礎(chǔ)，初步形成了從產(chǎn)品設(shè)計、前工序到后封裝的體系輪廓。目前國內(nèi)主要有7個；芯片制造骨干企業(yè)，國內(nèi)芯片生產(chǎn)企業(yè)總的講規(guī)模都不算太大，且產(chǎn)品工藝與國際先進水平有一定的距離。本項目擬建設(shè)8英寸（20.32cm）0.35-0.18ltm，預計量產(chǎn)時月投片30000片：12英寸（30.48cm）先進制程線，0.13-0.09gm，月投產(chǎn)3000片。因此，無論是產(chǎn)品工藝還是生產(chǎn)規(guī)模都將成為國內(nèi)最先進的芯片生產(chǎn)企業(yè)。

    在擬建項目生產(chǎn)技術(shù)路線和生產(chǎn)工藝是在國際上較為先進的，技術(shù)水平上符合集-成電路加工制作清潔生產(chǎn)的要求。本項目努力提高資源和能源的綜合利用能力，水資源綜合利用取得一定的效果，部分廢水回用，廢物減量化，"三廢"治理措施合理可行。因此，基本上符合清潔生產(chǎn)的要求，但水資源綜合利用仍有潛力可挖。